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[主观题]
在等离子体源离子注入中,当负高压脉冲(幅值V0)加到金属靶上时,靶表面附近电子立即被排斥出鞘层区域,由于离子质量大,没有来得及运动,留下一个均匀的离子鞘层,设离子密度ns=const,并假设在鞘层边界电场和电势为零,求平板、柱形和球形靶鞘层内电场和电势分布,以及鞘层厚度表达式。
暂无答案
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A.直流高压闪络法能测量闪络性故障及一切在直流电压下能产生突然放电的故障
B.冲击高压闪络法是向电容器充电,当储能到一定电压后,间隙击穿放电,向故障电缆加一冲击高压脉冲,使故障点放电
C.直流高压闪络法在电缆上加上直流高压,当电压达到某一数值时,电缆被击穿,形成短路电弧
D.冲击高压闪络法接线中的阻波电感是用来防止反射脉冲信号被储能电容短路,以便闪测仪提取反射回来的突跳电压波形
V,R=10kΩ,C=1μF,R1=5kΩ,R2=10kΩ。试分析电路,记录输出电压波形,测试振荡频率。(提示:为给振荡电路一个起始冲激信号,电源电压Vcc采用起始电压V1=5V,TD、TR、TF均为0,脉冲宽度PW=1ms,高度V2=10V的脉冲源。)
在本市技防工程设计施工中,应保证脉冲电子围栏的最下端导线(包括与围栏间隙最小的)应带有高压脉冲。()
A.该缺陷主要是由于设备安装过程或开关动作过程中产生的金属碎屑引起
B.随着设备内部电场的周期性变化,该类金属微粒表现为有规律的移动或跳动现象
C.当微粒在高压导体和低压外壳之间跳动幅值增大时,设备存在击穿危险
D.自由金属微粒放电对设备危害性较小