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[主观题]

一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

A.产生一个离子并导向靶

B.被轰击的原子向硅晶片运动

C.离子把靶上的原子轰出来

D.经过加速电场加速

E.原子在硅晶片表面凝结

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下列哪项关于基准的陈述不正确?

A.基准包括不断的评价组织的最好实践,并改进组织程序来应用这些最好的实践。

B.基准在实际中通常包括组件公司的基准团队

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