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题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

布图设计已经投入商业利用的,在申请布图设计登记之时,申请人应该提交含有该布图设计的()。

A.文字资料

B.集成电路样品

C.设计原稿布图

D.设计图纸

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第1题
在我国,布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。()
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第2题
集成电路布图设计权赋予设计人对自己创作完成的半导体集成电路布图设计享有()权和()权。

A.制作

B.复制

C.商业利用

D.使用

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第3题
布图设计专有权的取得方式有()。
布图设计专有权的取得方式有()。

A、登记取得

B、创作或使用取得

C、申请取得

D、注册在先取得

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第4题
()设计产品,指的是集成电路生产过程中的布图设计这一中间产品。

A.电子芯片

B.水晶导管

C.集成电路布图

D.以上都不是

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第5题
一般来说,布图设计专利权的保护期为()。

A.5年

B.10年

C.15年

D.20年

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第6题
从目前各国集成电路法的规定来看,布图设计权中均不包括精神权利。()
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第7题
《与贸易有关的知识产权协议》规定的保护范围有工业设计、地理标志、集成电路布图设计。()
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第8题
集成电路布图设计专有权的限制包括()。

A.合理使用

B.反向工程

C.权利穷竭

D.善意买主

E.强制许可

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第9题
对权利客体的新颖性、创造性要求最高的知识产权是()。

A.著作权

B.专利权

C.商标权

D.集成电路布图设计权

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第10题
下列权利中不属于工业产权的是()。A.专利权B.商标权C.集成电路布图设计权D.著作权

下列权利中不属于工业产权的是()。

A.专利权

B.商标权

C.集成电路布图设计权

D.著作权

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第11题
集成电路布图设计是一种三维配置形态的图形设计,属于著作权法意义上的图形作品或造型艺术作品。()
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