题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
在半导体生产中,常常采用的氧化方式是“干-湿-干”氧化,湿氧氧化的作用是()。
A.较短的时间得到较厚的薄膜
B.得到较好的表面
C.较好的二氧化硅特性
D.提高氧化膜的质量
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A.较短的时间得到较厚的薄膜
B.得到较好的表面
C.较好的二氧化硅特性
D.提高氧化膜的质量