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题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

在复合研抛工艺中,抛光时所用的抛光器是()质的,其流动性作用和微切削作用较强,其加工效果主要是降低表面的粗糙度值。

A.硬

B.超硬

C.软

D.超软

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第1题
CMP工艺的三大关键因素是()。

A.抛光机

B.抛光液

C.抛光盘

D.抛光垫

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第2题
以下关于抛釉砖说法错误的是()

A.抛釉砖工艺上分透明釉和透明凸状花釉,由马可波罗发明的透明凸状花釉逼真度更高,工艺门槛更高

B.集抛光砖和仿古砖优点于一体,釉面如抛光砖光滑亮洁,同时釉面花色如仿古砖般图案丰富,色彩厚重绚丽

C.是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉,它是施于仿古砖的最后一道釉料

D.抛釉砖防污效果和耐磨程度比抛光砖差

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第3题
不锈钢电解抛光中,()有很强的氧化性,能使不锈钢表面钝化,避免抛光表面产生过腐蚀,有利于提高抛光表满的光亮度,含量在50~60g/L为宜。
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第4题
不锈钢电解抛光中,铬酐有很强的氧化性,能使不锈钢表面钝化,避免抛光表面产生(),有利于提高抛光表满的(),含量在50~60g/L为宜。
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第5题
不锈钢电解抛光中,铬酐有很强的(),能使不锈钢表面钝化,避免抛光表面产生过腐蚀,有利于提高抛光表满的光亮度,含量在50~60g/L为宜。
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第6题
关于Kerr的树脂抛光材料,描述正确的是()

A.抛光碟和轴的顶端齐平,使用安全

B.使用抛光刷时不用抛光膏

C.抛光杯是两步法抛光

D.抛光条两面都有抛光功能

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第7题
抛光时请解释“逢楞遇缝换切面的意思”()

A.抛光时边楞可以抛

B.抛光时边楞不可以抛

C.抛光时需要跟随漆面弧度调整抛光盘的角度来抛边楞

D.抛光盘可以随意抛边楞

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第8题
羊毛盘容易抛穿漆面,在实际抛光的过程中,应该尽量避免使用()
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第9题
在使用卧式抛光机时抛光盘与漆面保持的角度是()

A.0度

B.3-5度

C.0-15度

D.5-8度

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第10题
抛光时漆面抛穿的原因(A 、B、C)()

A.干磨

B.温度高没有注意漆面

C.斜抛

D.抛光盘脏

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第11题
使用化学机械抛光进行粗抛时抛光区域温度一般控制在()。

A.38-50℃

B.20-50℃

C.20-30℃

D.20-38℃

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