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真空蒸镀必须在高真空下完成。()

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第1题
真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,气化粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。()
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第2题
PVD的种类有()。

A.真空蒸镀

B.等离子体

C.溅射

D.二氧化硅

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第3题

真空蒸镀法的特点是什么?基材表面状态如何影响镀膜质量?

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第4题
真空蒸镀薄膜的形成机理有核生长型、()型和混合生长型。
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第5题
真空蒸镀法薄膜形成过程,从开头蒸发到基片外表成膜,可分为四个阶段:成核—小岛阶段、()阶段、形成网状薄膜、沟道、通路、孔眼阶段、成膜阶段。
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第6题
粗苯乙烯的分离与精制,为什么必须在真空和较低温度下进行精馏操作?且分成两个塔进行?这两个塔的名称是什么?
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第7题
以铝互连系统作为一种电路芯片的电连系统时,若分别采用真空蒸镀和磁控溅射工艺淀积铝膜,应分别从哪几方面来提高其台阶覆盖特性?
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第8题
在有机电致发光器件中,以下哪种性质不是有机发光层的材料必须具备的________?

A.固态下有较强荧光

B.载流子传输性能好,量子效率高

C.热稳定性和化学稳定性佳

D.柔软可折叠

E.柔软可折叠

F.能够真空蒸镀

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第9题
关于说明书中注意事项,说法错误的是()

A.本品抽真空封装,开袋后不宜长期保存,应今早服用

B.常温保存

C.本品性状发生改变时禁用

D.儿童必须在成人监护下使用

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第10题
电子束和离子束加工为什么必须在真空条件下进行?
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第11题
电子束和离子束加工为什么必须在真空条件下进行?

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