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[单选题]

集成电路按制作()可分为半导体集成电路和薄膜集成电路。

A.流程

B.结构

C.材料

D.工艺

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第1题
集成电路布图设计权赋予设计人对自己创作完成的半导体集成电路布图设计享有()权和()权。

A.制作

B.复制

C.商业利用

D.使用

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第2题
压阻式压力传感器是利用半导体材料的()和集成电路工艺制成的传感器。
压阻式压力传感器是利用半导体材料的()和集成电路工艺制成的传感器。

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第3题
新兴工业中的半导体、集成电路等工业布局的决定性条件是 ()A.知识技术;洁净优美的环境

新兴工业中的半导体、集成电路等工业布局的决定性条件是 ()

A.知识技术;洁净优美的环境和现代化高速交通运输条件

B.社会服务和生产协作条件

C.有大量廉价的劳动力

D.接近原料产地、能源充足

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第4题
扩散是半导体掺杂的重要方法之一,广泛应用于集成电路中,形成晶体管的基极、发射极、集电极,电阻,MOS工艺中形成源极、漏极、互连引线等。()

此题为判断题(对,错)。

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第5题
下面关于集成电路(IC)的叙述中,正确的是()。

A.集成电路是上世纪50年代出现的

B.集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成

C.集成电路使用的都是半导体硅(Si)材料

D.集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

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第6题
关于电子出版物,说法正确的有()。

A.按载体的不同,电子出版物可分为磁盘类、光盘类、集成电路卡类

B.按基本用途可分为计算机软件类、游戏类、信息检索类等

C.电子图书是“非连续型电子出版物”

D.电子期刊、电子报纸等称为“连续型电子出版物”

E.电子出版物的复制与发行都是同步进行的

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第7题
电气和计算机工程领域在20世纪经历了几次重大的技术重点转移()。

A.由电力传输与旋转机械向电子学转移

B.由电子管向半导体以及由分立元件向集成电路转移

C.由模拟电子向数字电子转移

D.由固定的向可编程的数字硬件转移

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第8题
MEMS分类的描述中,正确的是()。

A.特征尺寸通常是指集成电路中半导体器件的最大尺寸

B.特征尺寸在1mm-l0mm的为小型机械

C.特征尺寸在1um-1mm的为微型机构

D.特征尺寸在1nm-1um的为纳米机械

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第9题
按处理信号的类别分集成电路有()、()两大类。
按处理信号的类别分集成电路有()、()两大类。

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第10题
SLE4520是一种应用ACMOS技术制作的低功耗高频大规模三相PWM集成电路。在适当的软件控制下,SLE4520就能产生驱动三相逆变器的SPWM()信号。

A.三相十路

B.三相八路

C.三相十六路

D.三相六路

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第11题
电力系统的飞速发展对继电保护不断提出要求,电子技术、计算机技术与通信技术的不断更新又为继电保护技术的发展提供了新的可能性。因此继电保护技术在近百年的时间里经历了四个发展阶段,按发展顺序分别是()。

A.机电式保护、晶体管式保护、集成电路式保护、数字式保护

B.晶体管式保护、机电式保护、集成电路式保护、数字式保护

C.集成电路式保护、机电式保护、晶体管式保护、数字式保护

D.数字式保护、机电式保护、晶体管式保护、集成电路式保护

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