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[判断题]

对附带有中测单的产品,加工前还须核对中测单中用户批号与流程卡中用户批号是否一致。()

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第1题
对附带有中测单的产品,须核对中测单中()与流程卡中是否一致。

A.产品型号

B.片号

C.委工单号

D.用户批号

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第2题
上芯MAP调取过程,说法正确的有()。

A.调取MAP时,应由小组生产组长做二次确认

B.加工ELQFP176及VSOP8L产品时,读取MAP必须使用条码扫描读取,不得手动调用

C.在调取MAP后,应核对调出的MAP好芯片数量与中测单中数量一致方可加工

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第3题
每片晶圆调取MAP后,需要核对()

A.WAFERMAPPING批号与实际晶圆批号一致

B.中测单中BIN的数目应与设备上所显示的BIN数目一致

C.中测单中芯片数与MAP中BIN的数目

D.MAP旋转角度与晶圆统计表中角度是否一致

E.文件名及编号与实际加工片号一致

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第4题
设备更换晶圆后,必须双人核对晶圆数量及参考点位置,并在()上签字。

A.流程卡

B.中测单

C.晶圆管制卡

D.map上芯数统计记录

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第5题
加工产品前要核对流程卡()中是否有特殊要求。

A.印章一栏

B.加工特征一栏

C.备注栏

D.工艺流程

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第6题
下列试验设计模式中哪一个不属于前试验设计()

A.单组后测设计

B.单组前后测设计

C.固定组比较设计

D.不等控制组前后测设计

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第7题
位于地面的测站点和定向点,根据不同的观测要求,可使用带有强制对中装置的主体倾斜观测标志有()。

A.混凝土标石

B.小标石

C.观测墩

D.埋入式照准标志

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第8题
产前检查要求对所加工的物料及上一工序交接的产品进行检查,按容器上()与请验单核对。

A.标识体积

B.标识内容

C.标识名称

D.标识规格

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第9题
新上机的有map晶圆需要核对()

A.中测数量和map数量

B.晶圆条码和晶圆刻字

C.框架批号

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第10题
以下选项中哪些是《WS507-2016》对侧漏的要求?()

A.宜每次清洗前测漏

B.宜每天工作开始前集中测漏

C.宜每天工作结束后集中测漏

D.条件不允许时,应该至少每天测漏一次

E.有问题时才测

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第11题
在采集系统中召测单相电能表()及()数据,核对电流值是否一致,避免出现一线一地窃电情况。

A.相电流

B.电压

C.功率

D.零线电流

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