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[单选题]
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（)覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。
A.二氧化硅
B.氮化硅
C. 光刻胶
D.去离子水
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井下巷道沉积煤尘超限是指堆积厚度超过()mm，连续长度超过()m的煤尘。
A.2;2
B.5;2
C.2;5
D.2;10.
A.把1.050进行修约，当修约间隔为0.1时，修约值为1.0
B.把0.35进行修约，当修约间隔为0.1时，修约值为0.3
C.把0.325进行修约，当把它修约成两位有效位数时，修约值为0.033
D.把-355进行修约，当把它修约到“十”数位时，修约值为-36×10
A.饱和状态
B.超固结状态
C.正常固结状态
D.欠固结状态
