题目内容
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[单选题]
射线探伤时,使用像质计的主要目的是()。
A.测量缺陷的大小
B.缺陷的位置
C.缺陷的几何不清晰度
D.确定透照底片上影像质量
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A.测量缺陷的大小
B.缺陷的位置
C.缺陷的几何不清晰度
D.确定透照底片上影像质量
按照JB/T 4730.2-2005《承压设备无损检测 第2部分:射线检测》规定,单壁透照中,如果像质计无法放在源侧而放在胶片侧时,应在像质计适当位置放置铅字“F”作为标记,“F”标记的影像应与像质计的标记同时出现在底片上,且应在检测报告上注明。()
按照JB/T 4730.2-2005《承压设备无损检测 第2部分:射线检测》的规定,小径管可选用通用线型像质计,也可选用专用(等径金属丝)像质计。()
按照JB/T4730.2-2005《承压设备无损检测 第2部分:射线检测》的规定,对于一次曝光完成多张胶片照相的情况,每张底片上都应有像质计影像。()
A.部门用户可能未执行充分的针对EUC应用的备份程序。
B.雇员可能将未经授权的办公自动化软件拷贝用于私人目的。
C.雇员可能将微机用于获得私人利益。
D.在进行终端仿真时,微机的屏幕显示能力可能不足。